本發明提供一種金屬用研磨液和使用其的被研磨膜的研磨方法,其能夠解決(A)由固體粒子所導致的損傷的產生,(B)碟陷、腐蝕等平坦性惡化的產生,(C)用以除去殘留于研磨后的基板表面上的研磨粒子的清洗工序的復雜性,(D)由于固體研磨粒子本身的成本及廢液處理而導致成本提高等問題,并且能夠以高的CU研磨速度進行CMP。本發明提供一種金屬用研磨液,其含有:金屬的氧化劑、氧化金屬溶解劑、金屬防蝕劑、以及重均分子量大于等于8000的具有陰離子性官能基的水溶性聚合物,PH值為大于等于1且小于等于3。本發明還提供一種被研磨膜的研磨方法,其特征在于:一面將上述的金屬用研磨液供給至研磨平臺的研磨布上,一面于將具有被研磨金屬膜的基板按壓于研磨布上的狀態下使研磨平臺與基板相對移動,以進行研磨。
聲明:
“金屬用研磨液以及被研磨膜的研磨方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)