本發明提供了一種用于半導體制造的基片處理系統,該系統包括一處理室,和一排氣系統;以及一用于提供清潔氣體的裝置。該排氣系統包括一個真空泵,一個真空排氣管道,和一個過濾裝置,該過濾裝置裝在真空泵的下游,且位于排氣管道內。本發明還提供一種方法,用于消除或減少排氣管道中固體殘余物的聚集,該方法是這樣實現的:將清潔氣體引入處理室并進一步引入排氣管道;通過真空泵下游和排氣管道內的過濾裝置來捕獲固體殘余物;加熱過濾裝置,以再激活清潔氣體,這些氣體與被捕獲的固體殘余物發生反應,將固體殘余物轉換為氣態殘余物;以及通過排氣管道釋放氣態殘余物??捎迷缓头种檬降入x子體源清潔法與上述方法相結合使用。
聲明:
“基片處理過程中用于消除廢白粉的裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)