本實用新型涉及一種去除硅片表面漿料的噴淋裝置,包括清洗槽、水箱、噴淋嘴、沉淀池和過濾器,清洗槽安裝在地面上設置的地槽內,水箱包括水箱一和水箱二,分別設置在清洗槽兩端,且在其前端對應設有噴淋管一和噴淋管二,兩個噴淋管都通過管旋轉連接器固定在清洗槽內,兩個噴淋管上都設有多個噴孔,在每個噴孔內安裝有噴淋嘴,清洗槽內設置有鋼板,在鋼板下端設有篩板,篩板下端設有廢水池,沉淀池包括一級沉淀池和二級沉淀池,一級沉淀池的進水口與廢水池的出水口管道連接,出水口連接二級沉淀池的進水口,二級沉淀池的出水口連接過濾裝置的進口;本實用新型降低生產成本,增加硅片噴淋沖洗幅度范圍,同時降低硅片清洗臟污率,從而降低硅片隱裂。
聲明:
“去除硅片表面漿料的噴淋裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)