本發明公開一種高濃度印染廢水處理新方法,包括下列步驟:(1)染廢水經隔柵去除雜質,送入混凝池;(2)流動(或攪拌)中按320mg/L投加磁流體,反應絮凝;(3)流經磁場沉降池,2-5分鐘,沉降完全;(4)清液溢流,沉降物過濾、壓濾取出;本發明的處理過程可在10min之內完成,并且高濃度印染廢水經一次處理CODCr去除率在75~80%,SS去除率在80%以上,色度一般在95%以上。
聲明:
“高濃度印染廢水處理新方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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