本申請涉及印刷工藝中的廢水處理系統,其包括離子交換艙以及RO滲透艙,離子交換艙一側設置有第一閥門,離子交換艙遠離第一閥門一側設置有第二閥門;RO滲透艙遠離第二閥門一側設置有第三閥門,RO滲透艙靠近離子交換艙一側設置有第四閥門;離子交換艙與RO滲透艙之間設置有控制裝置;控制裝置包括固定軸、第一錐齒輪、第一轉動圓管、第一L軸、第二轉動圓管、第二L軸以及第二錐齒輪;離子交換艙與RO滲透艙之間設置有驅動組件;第二L軸與離子交換艙之間設置有第一控制機構,第二L軸與RO滲透艙之間設置有第二控制機構;第二控制機構與第一控制機構結構相同。本申請具有簡化廢水處理過程的控制程序的效果。
聲明:
“印刷工藝中的廢水處理系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)