本發明涉及一種方法和設備,用于探究圍繞一配裝金屬套管的井眼的、一地質巖層的電阻率,一電流施加于套管,以便造成電流在一給定層位處漏入所述地層,而所述電流由一在測定層位每一側上接觸于套管的反饋電路予以分路,所述電路組配得確保在所述層位處沿著套管流動的電流與分路電流相比是很小的,確定位于測定層位每一側上相鄰各段套管上的各電壓降之間的差值,并從中推演出來泄漏電流(Ifor)。
聲明:
“套管井周圍地層電阻率的測定方法和設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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