本發明涉及一種分析下伏層位地震反射時間提拉規律的方法及裝置,其中,方法包括:建立鹽膏巖異常速度夾層引起下伏地震反射層位提拉幅度變化的計算模型?廣義提拉模型;根據鹽膏巖異常速度夾層引起下伏地震反射層位提拉幅度變化的計算模型?廣義提拉模型分析鹽膏巖異常速度層影響下伏層位地震反射時間提拉規律。本技術方案通過建立簡單地質模型的正演模擬建立符合實際構造的典型模型,研究鹽巖和膏巖不同厚度組合對下伏目的層成像的影響以及研究阿姆河右岸下石膏層中含有鹽巖情況不同所對應的地震響應特征,便于疊前速度分析,并更容易獲知疊后矯正鹽膏巖速度變化對下伏碳酸鹽巖目的層地震反射時間的影響。
聲明:
“分析下伏層位地震反射時間提拉規律的方法及裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)