本發明提供一種多通道碳化硅陶瓷膜元件及其制備方法,制備方法包括如下:支撐體的制備、過渡層的制備、以及表面膜層的制備,其中,支撐體使用碳化硅粉體Ⅰ、碳化硅粉Ⅱ,過渡層使用碳化硅粉Ⅲ,表面膜層使用碳化硅粉Ⅳ,碳化硅粉Ⅳ的平均粒徑<碳化硅粉Ⅲ的平均粒徑<所述碳化硅粉Ⅰ的平均粒徑,且碳化硅粉Ⅱ<碳化硅粉Ⅰ的平均粒徑。根據本發明獲得的多通道碳化硅陶瓷膜元件,表現為較強的親水憎油特性;良好的機械性能;所制備的陶瓷膜元件孔隙率在35%~45%之間,結合其親水憎油特性,膜通量達到氧化鋁陶瓷膜的3倍以上;碳化硅的化學穩定性較強,耐受各種溶劑和各種濃度氧化劑;使用溫度可以達到800~1000℃。
聲明:
“多通道碳化硅陶瓷膜元件及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)