本實用新型涉及一種適用于較差地質條件下偏壓進洞的反壓回填施工結構,當洞口段為圍巖較破碎的Ⅴ級洞口、不滿足“半明半暗”進洞的條件時,結合現有地勢進行“人造地形”,在偏壓側施作正面及側面擋墻,對正面擋墻及側面擋墻內側進行水泥土回填并碾壓,以滿足進洞條件。采用本實用新型的結構,可解決傍山偏壓、局部漏空的隧道進洞難題,同時可以減少淺埋偏壓地段邊、仰坡開挖高度,減少對山體的干擾和破壞,避免汛期施工造成的水土流失,減少了開挖對周邊環境影響小,充分體現了人與自然和諧發展的理念。本實用新型可以實現安全進洞,對保證項目整體建成有重要作用,具有一定的推廣和實用價值。
聲明:
“適用于較差地質條件下偏壓進洞的結構” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)