權利要求書: 1.一種混凝土地面抹平裝置,其特征在于,包括:機體(10);至少兩個抹盤機構(20),所述抹盤機構(20)設置在所述機體(10)的下方,其中,所述抹盤機構(20)可轉動地設置,以在所述抹盤機構(20)的抹平平面與混凝土地面接觸時,驅動所述機體(10)在所述混凝土地面移動,同時通過所述抹平平面對混凝土地面進行打磨;導向機構(30),所述導向機構(30)環繞所述機體(10)的外側設置并可繞機體(10)進行轉動,所述導向機構(30)的至少一部分在所述混凝土地面的正投影超出所述機體(10)和所述抹盤機構(20)在所述混凝土地面的正投影,以使所述導向機構(30)優先于所述機體(10)和所述抹盤機構(20)接觸障礙物(1),以實現所述混凝土地面抹平裝置的導向;支撐件(40),所述支撐件(40)設置在所述機體(10)上,所述支撐件(40)位于所述導向機構(30)的內側并與所述導向機構(30)接觸,以通過所述支撐件(40)支撐所述導向機構(30),以抵消所述導向機構(30)與所述障礙物(1)接觸時所受到的部分擠壓力;所述導向機構(30)包括:同步帶(32),所述同步帶(32)環繞所述機體(10)設置,所述同步帶(32)與所述機體(10)連接;凸起塊(31),所述凸起塊(31)設置在所述同步帶(32)靠近所述障礙物的一側,所述凸起塊(31)為多個,多個所述凸起塊(31)沿所述同步帶(32)的延伸方向相間隔地設置。2.根據權利要求1所述的混凝土地面抹平裝置,其特征在于,所述支撐件(40)上設置有限位槽,所述導向機構(30)至少部分安裝在所述限位槽內,以使所述導向機構(30)沿所述限位槽的延伸方向移動。3.根據權利要求1所述的混凝土地面抹平裝置,其特征在于,多個所述抹盤機構(20)包括第一抹盤機構(21)、第二抹盤機構(22)和第三抹盤機構(23),所述第一抹盤機構(21)和所述第三抹盤機構(23)設置在所述第二抹盤機構(22)的兩側;其中,所述第一抹盤機構(21)的第一抹平平面與水平面之間具有第一預定夾角,所述第三抹盤機構(23)的第二抹平平面與水平面之間具有第二預定夾角,所述第一抹平平面與所述第二抹平平面之間具有第三預定夾角。4.根據權利要求3所述的混凝土地面抹平裝置,其特征在于,所述混凝土地面抹平裝置還包括:兩組第
聲明:
“混凝土地面抹平裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)