權利要求書: 1.一種真空回轉窯出料裝置,真空回轉窯包括進行反應處理的高溫滾筒以及用于送出物料的接筒,所述接筒與所述高溫滾筒固定連接并且接筒內部腔體與所述高溫滾筒相連通,其特征在于,出料裝置包括出料管、螺旋輸送軸以及驅動機構,所述出料管外接于所述接筒的外側,所述螺旋輸送軸穿設在所述出料管內,所述出料管上開設有出料口,驅動機構與所述螺旋輸送軸傳動連接、用于帶動所述螺旋輸送軸動作,其中,所述出料管的壁板為具有內部空腔的雙層板,在所述壁板上開設有進水口與出水口,在所述內部空腔中構成降溫用的水循環結構。
2.根據權利要求1所述的真空回轉窯出料裝置,其特征在于,所述出料裝置還包括與接筒同軸線設置的第一軸承座、第一機械密封,所述第一軸承座、第一機械密封順序設置于所述接筒的外側并且環繞所述出料管設置,所述接筒的外側面中心位置開設有通孔,所述第一軸承座固定在所述接筒的外側面的外側,第一機械密封緊貼所述第一軸承座設置并與所述第一軸承座的外側面對接固定,所述出料管的一端對接至所述接筒處的通孔。
3.根據權利要求2所述的真空回轉窯出料裝置,其特征在于,所述第一軸承座內設置有第一軸承,所述第一軸承環繞所述出料管的外側設置,所述第一軸承座、第一機械密封以及接筒隨所述高溫滾筒同步轉動。
4.根據權利要求2所述的真空回轉窯出料裝置,其特征在于,所述出料裝置包括第二機械密封,所述第二機械密封設置于所述出料管的另一端,所述螺旋輸送軸穿設在所述出料管中,且所述螺旋輸送軸從所述出料管的另一端穿出,所述第二機械密封環繞所述螺旋輸送軸設置。
5.根據權利要求4所述的真空回轉窯出料裝置,其特征在于,所述出料管的另一端處設置有第二軸承座,所述第二軸承座內設置有第二軸承,所述第二軸承環繞所述螺旋輸送軸設置,第二機械密封緊貼所述第一軸承座設置并與所述第二軸承座的外側面對接固定。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的真空回轉窯出料裝置,其特征在于,所述螺旋輸送軸包括軸桿以及設置于軸桿上的螺旋葉片,所述軸桿為中空管,所述軸桿的外側端部連接有旋轉接頭,所述旋轉接頭與外部的催化氣源相連接。
7.根據權利要求6所述的真空回轉窯出料裝置,其特征在于,所述軸桿上的螺旋葉片由所述接筒內至少延伸至所述出料口處。
8.根據權利要求1所述的真空回轉窯出料裝置,其特征在于
聲明:
“真空回轉窯出料裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)