提供一種用于等離子處理室的失效檢測方法。該方法包括檢測該等離子室內的等離子參數和分析所得到的信息。這種分析使得能夠檢測如工藝副產物聚集、氦泄漏、匹配重調諧時間、差穩定速率和等離子限制損失的失效。還使得能夠在該晶片處理過程中進行失效模式診斷。該方法包括測量該等離子參數與時間的函數和分析得到的數據??衫萌缣结樀奶綔y器進行監測,該探測器優選地保持在該等離子室內基本上與該室內的表面共面并且直接測量凈離子通量和其他等離子參數。
聲明:
“檢測等離子處理反應器的故障狀況的方法和設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)