采動(dòng)影響下根系形態(tài)觀(guān)測裝置及方法

本發(fā)明提供一種采動(dòng)影響下根系形態(tài)觀(guān)測裝置及方法，裝置包括：玻璃罩，其上設置有多個(gè)孔洞；控制臺，所述玻璃罩罩設在所述控制臺上；多個(gè)升降臺，其均位于所述玻璃罩內且緊密排列在所述控制臺上；所述升降臺上為待觀(guān)測的土壤及植被；微根管，設置在所述孔洞上；以及X射線(xiàn)層析成像系統，其位于所述控制臺附近。本發(fā)明可以模擬和觀(guān)測開(kāi)采影響下植物根系的生長(cháng)變化情況和植被受采動(dòng)影響后的自修復情況。本發(fā)明在模擬地表采動(dòng)變化時(shí)較為靈活，可根據需要模擬出不同開(kāi)采影響程度下植被根系的影響特征和植被的自修復狀況，可實(shí)現根系的原位、無(wú)損、定量觀(guān)測。