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基于化學增強光刻膠及電子束曝光的掩模版的制造方法

751   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 07:02:27
本發明提供一種基于化學增強光刻膠及電子束曝光的掩模版的制造方法，包括步驟：步驟1），于掩模版上形成正型化學增強光刻膠，對所述光刻膠進行曝光；步驟2），對曝光后的光刻膠進行前烘及冷卻；步驟3），對所述光刻膠進行顯影形成圖形光刻膠，并對所述掩模版進行濕法腐蝕以形成圖形掩模版；步驟4），去除所述圖形光刻膠；以及步驟5），對所述圖形掩模版進行關鍵尺寸測量。本發明取消了傳統后烘和打膠兩個步驟，將傳統工藝中獨立的兩個程序顯影和腐蝕合并成了連續的步驟，并考慮到取消了后烘和打膠兩個步驟，將顯影時間下降一部分以補償關鍵尺寸的變化趨勢，使得最終的線寬保持在一個良好的范圍，大大簡化了整個工藝流程，并大大提高了產品良率。
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“基于化學增強光刻膠及電子束曝光的掩模版的制造方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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