本發明提供了一種用于制備石墨烯薄膜的化學氣相沉積裝置及方法,該裝置包括反應單元、碳源進給單元和真空檢控單元;其中,所述反應單元用于進行化學氣相沉積反應,所述碳源進給單元用于為所述反應單元提供氣態碳源,所述真空檢控單元用于控制和檢測所述反應單元的真空度;所述碳源進給單元包括霧化器和汽化器。本發明一實施方式的用于制備石墨烯薄膜的化學氣相沉積裝置,通過設計結構簡單的碳源進給器,替代傳統的注射泵法、鼓泡法和加熱法,使得碳源的控制更加精確穩定,且降低了生產成本。
聲明:
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