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去除速率和平坦化改善的化學機械拋光墊

1029   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 06:56:02
本發明提供一種用于拋光三維半導體或存儲器襯底的化學機械(CMP)拋光墊，所述拋光墊包含熱固性反應混合物的聚氨酯反應產物的拋光層，所述熱固性反應混合物具有固化劑4，4′?亞甲基雙(3?氯?2，6?二乙基苯胺)(MCDEA)或MCDEA與4，4′?亞甲基?雙?鄰?(2?氯苯胺)(MbOCA)的混合物，和聚異氰酸酯預聚物，所述預聚物由以下形成且具有8.6至11wt.％的未反應異氰酸酯(NCO)濃度：一種或兩種芳香族二異氰酸酯，如甲苯二異氰酸酯(TDI)，或芳香族二異氰酸酯與脂環族二異氰酸酯的混合物，和聚四亞甲基醚二醇(PTMEG)、聚丙二醇(PPG)的多元醇，或PTMEG與PPG的多元醇摻合物。所述拋光層中的所述聚氨酯根據ASTM?D2240?15(2015)具有50至90的肖氏D硬度、在65℃具有70至500MPa的剪切存儲模量(G′)，且在50℃具有0.06至0.13的阻尼分量(G″/G′，通過剪切動態力學分析(DMA)所測量，ASTM?D5279?08(2008))。
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