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光刻方法

706   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-19 09:01:09
本發明提供的一種光刻方法,包括:提供測試晶圓;使用設計掩模版對所述測試晶圓進行光刻工藝,在測試晶圓表面形成光刻膠圖形;檢測所述光刻膠圖形,查找發生圖形坍塌的區域;根據所述光刻膠圖形的坍塌區域,制作修正掩模版,所述修正掩模版具有開口,所述開口與所述圖形坍塌區域相對應;提供產品晶圓;分別使用所述修正掩模版以及設計掩模版對產品晶圓進行曝光,在產品晶圓表面形成光刻膠圖形。本發明通過對已發生圖形坍塌的光刻膠區域進行二次曝光,使得該區域光刻膠的圖形失效,從而避免了光刻膠缺陷的擴散。
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