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清潔系統

1109   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:57:04
一種清潔系統，包括至少一清潔模塊，配置以在一化學機械研磨(CMP)制程之后接收一基板，并且使用一清潔溶液去除在基板上的多個污染物。清潔系統還包括一清潔溶液供給系統，配置以將清潔溶液供給到至少一清潔模塊。清潔溶液供給系統包括至少一溫度控制系統。至少一溫度控制系統包括：一加熱裝置，配置以加熱清潔溶液、一冷卻裝置，配置以冷卻清潔溶液、一溫度感應器，配置以監測清潔溶液的一溫度、以及一溫度控制器，配置以控制加熱裝置及冷卻裝置。
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化學分析
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