一種核殼型粉體超黑材料及其制備方法。屬于超黑材料技術領域。本發明解決了傳統超黑粉體材料存在的粉體易團聚及可控性差的技術問題。產品通過原子層沉積技術在炭黑粉體表面沉積超薄氧化物膜層,得到核殼型粉體超黑材料。炭黑作為基體材料,其較高的太陽光吸收率、優異的著色能力及良好的空間穩定性,可有效消除空間極端環境產生的雜散光;經原子層沉積的氧化物膜層與炭黑表面形成穩定化學鍵合可提高碳納米材料的分散性及消光性能。本發明所獲得的高保形、均勻的核殼結構超黑材料分散性好且光吸收性能優異,在天文攝影、軍事偵察、空間觀測、光熱轉換等領域具有廣泛的應用前景。
聲明:
“核殼型粉體超黑材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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