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Mg摻雜增強過渡金屬硫化物基可見光探測器及其制備方法

1057   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 07:27:49
本發明屬于可見光探測器的技術領域，公開了一種Mg摻雜增強過渡金屬硫化物基可見光探測器及其制備方法。所述可見光探測器包括從下至上依次設置的Si襯底層、InGaN層、Mg摻雜的過渡金屬硫化物層和電極層。Mg摻雜的過渡金屬硫化物層部分覆蓋InGaN層。本發明還公開了可見光探測器的制備方法。本發明在InGaN表面部分沉積Mg金屬層，利用化學氣相沉積制備Mg摻雜TMDs層，引入大量的受主能級，實現了TMDs的p型摻雜，調控了載流子濃度。調控后的載流子優化了材料與電極間勢壘高度，降低了暗電流，增強了整流比，提升了器件的響應速度，對于實現高性能、高靈敏的可見光通信用光電探測器具有重要意義。
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