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監視化學機械拋光中的拋光墊紋理

796   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 07:03:19
一種用于化學機械拋光的設備包含：平臺，所述平臺具有表面以支撐拋光墊；承載頭，所述承載頭固持基板抵靠拋光墊的拋光表面；墊調節器，所述墊調節器將研磨主體壓靠在拋光表面上；原位拋光墊監視系統，所述原位拋光墊監視系統包含設置在平臺上方的成像器以捕獲拋光墊的圖像；以及控制器，所述控制器被配置成接收來自監視系統的圖像并且基于所述圖像生成拋光墊表面粗糙度的測量?？刂破骺墒褂没跈C器學習的圖像處理來生成表面粗糙度的測量。
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