本實用新型公開了一種晶圓用化學刻蝕設備,包括刻蝕槽,刻蝕槽內放置有晶圓放置架,晶圓放置架上排列有晶圓,晶圓放置架包括相對豎直設置的主支架,滑動設置在主支架底部的支撐拉板以及橫向設置在主支架中部的輔助支架,輔助支架上鉸接有多個用于定位晶圓側邊的槽塊,刻蝕槽底部與中轉槽體通過進液管道以及出液管道循環連接,進液管道橫向設置且其上設有氣泡檢測傳感器,所述出液管道上設有循環泵??涛g均勻性好,可以防止二次刻蝕。
聲明:
“晶圓用化學刻蝕設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)