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化學機械拋光裝置的終點偵測系統

819   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 06:47:31
本發明提供一種化學機械拋光裝置的終點偵測系統。該終點偵測系統包含有一拋光平臺,一覆蓋于該拋光平臺之上的拋光墊,一位于該拋光平臺中的內室,及一設置于該內室的周圍的氣體流動系統。其中,該氣體流動系統包含有一氣體入口及一氣體出口,分別用以導入干燥氣體于該內室中及排出該內室中的水汽。由于該氣體流動系統可排出沉積在該內室中的水汽,因此可以避免水汽殘留等問題,而準確地偵測出化學機械拋光工藝的終點。
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