本申請公開了一種用于非線性光譜原位檢測電化學體系中電極界面動力學過程的薄層電化學反應池,屬于光譜電化學反應技術領域,解決了現有技術中的電解池中入射光被電解液吸收影響二階非線性信號強度以及只適用于特殊形狀工作電極造成的電解池使用局限性的問題。本申請的薄層電化學反應池包括工作電極、對電極、參比電極、電解池、導電底座和導電柱,參比電極、對電極和導電柱設于電解池的前端,工作電極設于導電底座上且位于電解池內;導電柱的一端與導電底座接觸,另一端伸出電解池外,作為工作電極的引線。本申請的薄層電化學反應池可用于非線性光譜原位檢測電化學體系中電極界面動力學過程的研究。
聲明:
“用于非線性光譜原位檢測的薄層電化學反應池” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)