本發明提供了一種用于減少晶圓邊緣良率測試問題的方法,包括:第一步驟:獲取對晶圓的鈍化層執行光刻所將要采用的圖案化光罩和圖案化光阻;第二步驟:將所述圖案化光罩變成反相的以得到反相的圖案化光罩,而且在保持光阻圖案不變的情況下使得所述圖案化光阻的正負屬性變化以得到相反的圖案化光阻;第三步驟:利用所述反相的圖案化光罩和所述相反的圖案化光阻,對晶圓執行光刻。在本發明的用于減少晶圓邊緣良率測試問題的方法中,將鈍化層的光罩和光阻都變成反相的,這樣既保持了晶圓中,除去邊緣位置開始的預定部分,其他部分圖形不變;而從邊緣起到預定部分,鈍化層保留下來,這樣就不會產生測試假失效的問題。
聲明:
“用于減少晶圓邊緣良率測試問題的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)