本發(fā)明公開(kāi)了一種薄膜封裝Test key的制作方法和檢測方法,S1:在玻璃基板上制備TFT驅動(dòng)器,在制備TFT驅動(dòng)器時(shí),玻璃基板邊緣中的襯底層與TFT驅動(dòng)器中的SiNx層在同一層,即在制備TFT驅動(dòng)器時(shí),沉積在玻璃基板邊緣的SiNx層形成襯底層,再在TFT驅動(dòng)器制備像素定義層,像素定義層經(jīng)過(guò)曝光顯影蝕刻脫膜形成圖案,然后再在像素定義層的開(kāi)口處濺射一層陽(yáng)極;S2:在步驟S1的基礎上制備OLED發(fā)光器件,然后再在OLED發(fā)光器件上制備陰極,其中陰極包含Mg陰極和Ag陰極;S3:在步驟S2的基礎之上沉積薄膜封裝層。本發(fā)明可以高效和快速地檢測出薄膜封裝的OLED顯示器是否失效,以及水氧侵蝕的程度,為后續維修和使用提供一個(gè)方向,并且在器件的開(kāi)發(fā)方面具有重要意義。
聲明:
“薄膜封裝Test key的制作方法和檢測方法” 該技術(shù)專(zhuān)利(論文)所有權利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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