一種暗場缺陷檢測設備自對準工藝窗口的校正方法,包括:步驟S1:提供測試晶圓,具有不同功能膜層厚度和面積的測試區域;步驟S2:測試不同測試區域,并收集不同反射光信號強度;步驟S3:對反射光信號強度Y進行擬合,得到擬合公式Y=αxn+βyn+γ;步驟S4:根據擬合公式,結合實際工藝生產中功能膜層之厚度和面積,推算所需的自對準光強值,進而對暗場缺陷掃描設備實現參數調整。本發明通過對不同功能膜層厚度和面積的測試區域進行多觀測點測試,得到擬合公式,即可推算所需的自對準光強值,不僅有效避免因功能膜層過暗或過亮導致的自對準失效,而且可實時調整暗場缺陷檢測設備之參數,保證暗場缺陷檢測設備之光強值滿足自對準校正的有效范圍。
聲明:
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