本發明公開了一種測量光刻膠掩模槽形結構參數的方法,其特征在于:采用TE/TM線偏振光為入射光,入射角為被測掩模的閃耀角,分別測量標準反射片的反射光的光譜分布D0(λ);被測掩模的反射衍射零級復色光的光譜分布D(λ);采用比較法,計算出介質膜光柵掩模實際的反射衍射零級的光譜分布Rg(λ),對其進行光譜反演,得到掩模的槽形參數:光刻膠的剩余厚度、槽深和占寬比。本發明實現了對于面積、重量均較大的待測掩模的槽形參數的無損檢測;且可以避免測量系統的誤差,對光譜儀測量系統以及光源沒有特別要求,測量方法簡單易行。
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