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半導體摻雜層厚度無損檢測方法

1136   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:57:42
本發明涉及一種外延層厚度無損檢測方法，包括：獲得外延層的摻雜濃度；獲得反向偏置電壓值V：使用探針與外延層接觸，形成肖特基結，并對肖特基結施加逐步增大的反向偏置電壓，記錄下電流出現明顯變化時的反向偏置電壓值V；根據公式進行計算，得到d值即為外延層厚度。本發明所述外延層厚度無損檢測方法，對于厚度在5微米以下的外延層，厚度檢測精度為0.01微米，且最小的檢測厚度為0.1微米，極大促進了外延層檢測技術的拓展和準確性，具有高精度、無損檢測的優勢。
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