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BCD工藝用超高溫條件下滑移線的外延控制方法

892   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 08:57:03
本發明公開了一種BCD工藝用超高溫條件下滑移線的外延控制方法,包括步驟：(1)準備溫度控片；(2)反應腔升溫并進行HCL清潔；(3)冷卻至室溫，裝入溫度控片；(4)以恒定的升溫速率升溫至1150?1200℃進行烘烤；(5)取出溫度控片進行化學處理；(6)對溫度控片進行電阻率測試，獲得溫度控片各區域溫度并進行溫度補償；(7)清洗待外延的硅片并重復步(2)的操作后，將待外延的硅片放入反應腔；以步驟(4)中的升溫速率升溫至預設烘烤溫度并同步進行步驟(6)中的溫度補償，進行烘烤；調整反應腔溫度至生長溫度，通入SiHCl3、H2并摻雜，外延生長至目標厚度和目標電阻率。本發明能夠有效控制外延過程中硅片表面的溫度分布，更好控制滑移線的產生。
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“BCD工藝用超高溫條件下滑移線的外延控制方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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