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晶圓清洗設備

1131   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 07:31:09
一種晶圓清洗設備,用于化學機械拋光過程,包括固定所述晶圓的支撐架、以及位于所述晶圓表面的清洗刷,還包括至少一個探測裝置,所述探測裝置包括信號發生器和信號分析儀,所述信號發生器固定在所述清洗刷的轉軸上,所述信號分析儀與所述信號發生器信號相連。本實用新型所述晶圓清洗設備包括探測裝置,所述探測能夠實時監控晶圓清洗過程,監測設備故障并及時報告,從而降低晶圓受損的幾率,提高了晶圓的成品率。
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