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對作用于基底上的壓力的測量方法

1140   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 07:27:50
本發明提供一種對作用于基底上的壓力的測量方法，提供一基底，在基底上設置一壓力感測器以及一信號接收器，采用一壓力裝置作用于基底上，向基底施加壓力，壓力感測器感測基底受到的壓力并獲得相應的壓力數據，信號接收器接收壓力數據并傳輸至一終端設備，終端設備根據壓力數據得到基底上的壓力分布，通過壓力分布調整壓力裝置向基底施加的壓力，從而改善向基底施加的壓力的均勻度，通過該方法可以改善化學機械研磨的均勻度，并避免由此產生缺陷。
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聲明：
“對作用于基底上的壓力的測量方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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