一種用于處理一個或多個平板顯示器基板的等離子增強化學氣相淀積系統的方法與裝置,該裝置包含一用來容納氣體的真空淀積腔、一用來分析該反應腔內氣體并提供反饋的殘余氣體分析器以及一用來監控來自該氣體分析器的反饋的控制器。一種用來辨識一用于處理一個或多個平板顯示器基板的等離子增強化學氣相淀積系統中的制程干擾的方法,該方法包括:測定作為時間函數的分壓曲線的過去斜率;根據通過一殘余氣體分析器所測得的分壓測量值來計算出一新的曲線斜率;比較該過去斜率與新斜率;以及發送一信號給一操作者。
聲明:
“氣體泄漏探測器及制程氣體監控” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)