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用于高純GaN單晶中痕量雜質元素分布的檢測方法

1164   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 07:13:11
本發明涉及材料檢測技術領域，且公開了一種用于高純GaN單晶中痕量雜質元素分布的檢測方法，包括以下步驟：步驟1、將待測的GaN單晶樣品放置于樣品室中的載物臺上；步驟2、將樣品室先抽真空，再通入載氣，使樣品室氣壓上升至大氣壓；隨之抽真空，再次通載氣至大氣壓，反復若干次；步驟3、將樣品室通入載氣并保持穩定氣流持續吹掃樣品室，引入ICP炬焰，檢測各待測元素質荷比計數，直至待測元素質譜信號穩定后作為空白值。本發明無需強酸、強堿及消解設備，綠色環保，樣品無需特別加工、檢測方便快速、測定下限低，干擾少，靈敏準確；可直接用于高純GaN的雜質元素含量測定和雜質元素分布平面(三維)測定；完全規避了樣品化學消解帶來的局限性。
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“用于高純GaN單晶中痕量雜質元素分布的檢測方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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