本發明公開了一種電致化學拋光裝置及其工作方法,所述的裝置包括隔振光學平臺、線型滑臺、電極系統、基準平晶、真空陶瓷吸盤、調平基板、微分測頭和壓電陶瓷偏轉臺。本發明采用粗調和精調相結合,調平精度高、范圍大,可以對不同厚度的材料進行拋光;本發明使用柔性波紋管傳遞扭矩,降低了由于電極轉動受力不均對下方液膜厚度均一性造成的影響,此外,柔性波紋管還可以減緩與減速電機和線型滑臺相連的保持架上裝配結構引起的振動對下端電極的影響,可以顯著提高拋光工件的質量;本發明采用直線軸承和導向軸代替傳統技術中的撥叉結構,可以極大地減小電極系統與其他部件的摩擦力,避免了電極在轉動過程中導致貴重電極與工件劃擦而損壞的技術難題。
聲明:
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