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控制拋光工藝的方法和化學機械拋光裝置

787   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 07:02:28
本發明提供了一種控制拋光工藝的方法和化學機械拋光裝置，其中裝置包括：拋光盤，其覆蓋有用于對晶圓進行拋光的拋光墊；承載頭，用于保持晶圓并將晶圓按壓在所述拋光墊上；測量模塊，用于利用在線測量工具獲取晶圓拋光的測量數據；以及，控制模塊，用于根據工藝前后的測量數據來修正工藝參數以提高拋光均勻性。
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聲明：
“控制拋光工藝的方法和化學機械拋光裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)
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