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用于化學蝕刻工件的裝置

755   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
2023-03-19 07:01:15
本發明公開了一種化學蝕刻工件的裝置,該裝置包括:接收處理氣體的腔室,該腔室具有用于抽取排出氣體的泵送口;和位于腔室內泵送口的上游的工件支撐部。該腔室進一步包括副腔,該副腔位于泵送口的上游和工件支撐部的下游,副腔包括窗口和臨近窗口的激發源,該激發源用于在排出氣體的樣品中產生等離子體,從而產生能夠通過窗口被監測的光發射。
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“用于化學蝕刻工件的裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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