本發明公開了一種化學氣相沉積過程中反應氣氛的監控系統,包括化學氣相沉積爐,化學氣相沉積爐具有反應室,反應室頂部與真空管道連接、底部與Zn原料坩堝連接,真空管道通過采樣泵與樣品室連接,樣品室還與稀釋管道、真空泵以及氣體分析儀連接,真空泵一端還與真空管道連接,氣體分析儀、采樣泵、真空泵均與控制器連接,控制器與計算機連接;還公開一種監控方法,通過檢測反應殘余氣體中H2S或H2Se的濃度,進而改變通入Zn坩堝原料載氣的流量。本發明能夠保證長時間沉積生產過程中反應空間內原料配比的一致性,且安全可靠,從而生產出高質量的光學材料。
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