一種化學機械拋光設備包括:拋光頭,其包括拋光頭主體、附于拋光頭主體的下部的薄膜和布置在拋光頭主體與薄膜之間的反射器;包括開口的托盤;發射器,其布置在托盤的開口下方,該發射器被構造為發射太赫波;檢測器,其布置在托盤的開口下方,該檢測器被構造為接收從發射器發射的太赫波和從反射器反射的太赫波;以及分析器,其被構造為分析通過轉換由檢測器接收到的太赫波而產生的電信號,該分析器被構造為確定拋光結束點。
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