本發明公開了一種CMP終點的確定方法、確定系統和CMP系統,該確定方法包括:獲取驅動所述拋光盤的電機負載率隨時間變化的數據、所述擺臂的擺動角度隨時間變化的數據和所述拋光頭相對于所述拋光盤中心的擺動距離隨時間變化的數據;進而根據以上數據得到歸一化摩擦力矩隨時間變化的數據;根據歸一化摩擦力矩隨時間變化的數據得到所述歸一化摩擦力矩隨時間變化的曲線;根據曲線確定拋光終點。本發明具有如下優點:不需要復雜的濾波計算,計算量小,能夠更加實時準確確定拋光終點,進而提升拋光后的成品質量。
聲明:
“CMP設備的終點確定方法、終點確定系統和CMP系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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