本發明提供了一種化學機械拋光中光譜終點的檢測方法、裝置及系統,包括:根據晶圓表面被拋薄膜的光譜檢測數據,確定被拋薄膜的平滑的光譜檢測數據;根據平滑的光譜檢測數據中關聯的反射率數據與檢測波長數據,確定平滑的光譜檢測數據中的極值點及每個極值點對應的波長值;根據至少兩個相鄰極值點的波長值以及被拋薄膜的光學折射率,確定被拋薄膜的剩余厚度;在檢測到被拋薄膜的厚度達到設定厚度閾值時,確定該被拋薄膜的厚度為拋光終點,以使化學機械拋光設備在拋光終點停止拋光;其通過計算晶圓表面被拋薄膜的剩余厚度,確定該被拋薄膜的厚度為拋光終點,提高了光譜終點的檢測精確度,且提高了化學機械拋光設備的工作效率。
聲明:
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