本發明涉及一種基于Silica/chitosan/Ru納米粒子電化學發光法檢測汞離子的方法,其是由步驟(1)合成摻雜殼聚糖和聯吡啶釕的二氧化硅復合納米粒子、(2)空白Silica/chitosan/Ru-ssDNA體系的制備、(3)Silica/chitosan/Ru-DNA/Hg體系的制備、(4)修飾電極的組裝、(5)電化學發光信號檢測、(6)ΔIi-CHgi標準曲線以及(7)檢測組成,其無需復雜的探針分子標記和固定過程,省時、成本低并且不影響富含T堿基的DNA對汞離子的識別,同時將化學修飾電極、納米粒子富集技術和電化學發光分析技術結合起來,實現了高靈敏度檢測Hg2+,檢出限達3pM。
聲明:
“基于Silica/chitosan/Ru納米粒子電化學發光法檢測汞離子的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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