本發明涉及用于分析測量介質的測量設備,包括:探頭殼體;輻射源;耦合和去耦光學器件,具有布置在探頭殼體中的至少一個測量窗口,并且將輻射源的輻射耦合到測量區域中,測量區域布置在探頭殼體外部并且測量介質位于測量區域中,并且將測量輻射從測量區域去耦;接收裝置,通過耦合和去耦光學器件檢測從測量區域去耦的測量輻射并且從檢測到的測量輻射生成輸出數據;至少一個附加物理或化學傳感器,集成在探頭殼體中并且檢測測量介質的被測變量并且將被測變量的值輸出作為測量信號;和電子測量單元,連接到接收裝置并且收集和處理接收裝置的輸出數據,其中電子測量單元連接到附加物理或化學傳感器并且收集和處理附加物理或化學傳感器的測量信號。
聲明:
“用于分析測量介質的測量設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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