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一種銀鉭復合材料構建的有序多孔陣列及其制備方法

1257   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
2023-03-19 06:32:50
本發明提供一種銀鉭復合材料構建的有序多孔陣列及其制備方法，采用磁控濺射沉積銀、鉭復合薄膜，將清洗干凈的單晶硅片真空下并沉積鉻膜；然后控制電流強度，分別精確調控銀、鉭元素沉積速率，維持腔室反應壓力，持續濺射沉積，鉭元素封堵銀在沉積過程中形成的間隙，在適當的銀、鉭元素沉積速率下形成銀鉭復合材料構建的有序多孔陣列。隨著鉭沉積速率的增加，薄膜表面孔狀陣列會被鉭元素大量封堵，進一步形成更為光滑的薄膜表面形貌。本發明所制備的銀鉭復合材料有序多孔陣列制備過程簡單，比表面積大，便于大面積生長，成本低，薄膜表面無有機化合物污染，能廣泛應用于SERS傳感、金屬催化、納米探針、光電器件、太陽能電池，吸附材料等領域。
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“一種銀鉭復合材料構建的有序多孔陣列及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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