本發明涉及水平井入靶過斷層的軌跡控制方法,包括如下步驟:根據已完鉆井地層對比獲取施工井所在區域的標志層劃分數據、施工井地質工程設計給出的靶點數據以及斷層數據;在沿軌跡方向的地震剖面上獲取斷層斷距;由工程設計軌跡確定斷層位置視平移對應的井斜、垂深,并計算出斷層距離靶點的垂深;判斷斷層所在的層位,選取該層位上部和下部各一套標志層,并計算在鄰井中兩套標志層之間的垂厚及標志層二距靶點的垂厚;算出鉆遇標志層二時的井斜和斜深;判斷軌跡是由斷層的上升盤鉆至下降盤,還是由斷層的下降盤鉆至上升盤,根據不同的軌跡設計不同的入靶過程。本發明通過合理的軌跡控制,減小或規避斷層帶來的影響,實現軌跡順利入靶的目的。
聲明:
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