本發明公開了一種小晶粒銳鈦礦光學薄膜及其制備方法,有效抑制銳鈦礦大晶?,F象的技術難題,有效地提高了像增強器輸入窗與光電陰極界面的透過率,提高了光電陰極的光電發射效率,屬于光電探測領域。本發明所述小晶粒銳鈦礦光學薄膜制備在玻璃基底表面。小晶粒銳鈦礦光學薄膜由過渡層、銳鈦礦薄膜和夾層薄膜組成。銳鈦礦薄膜制備在過渡層薄膜表面,在銳鈦礦薄膜的基礎上制備夾層薄膜,周期性的重復銳鈦礦薄膜和夾層薄膜的制作,且表層為銳鈦礦薄膜,達到要求的厚度即完成小晶粒銳鈦礦光學薄膜制備。
聲明:
“小晶粒銳鈦礦光學薄膜、制備方法及其用途” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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