VTF-1200X-III-TSSG是一款3溫區頂部籽晶助熔劑法(TSSG)晶體生長爐。此設備主要由3部分組成:3溫區加熱爐(爐膛尺寸為:Φ127mm×600mm,最高溫度為1200℃),溫控系統可設置28段溫度程序段,控溫精度±1℃和精密旋轉提拉機構,其提拉速度為0.8-50mm/hour。
OTF-1200X-SCB是一款小型晶體生長爐,適用于提拉法或布里奇曼法生長單晶,其最高溫度可達1100℃。設備主要由提拉機構和爐體組成,提拉機構具有提拉&旋轉功能,爐體采用立式雙溫區管式爐,爐管為直徑為Φ50mm的石英管,并且配有不銹鋼密封法蘭,此設備可采用提拉法(用籽晶從熔融態原來中提拉出單晶)或布里奇曼法(將樣品封入到小石英試管里,石英試管在加熱區內向下移動)生長各種單晶。
FMF-65是一款落地式水冷坩堝真空懸浮感應熔煉爐系統,并且帶有坩堝傾倒裝置,可做金屬澆注實驗,可用于新一代磁性合金和金屬材料的探索研究。設備中包含一功率高達65KW的感應熔煉爐,可有效地加熱高達250g的金屬樣品(Ti),最高加熱溫度達1800℃。不銹鋼真空腔體保證樣品可在真空或氣氛保護環境下進行熔煉,采用特殊樣式的水冷銅坩堝使得金屬樣品能夠在熔煉過程中懸浮,避免了坩堝對物料的污染。熔煉過程中強烈的電磁攪拌也能夠保證其樣品內部的溫度及化學成分的均一性。
VMCS-1200-LD是一款1200℃的熔煉/鑄造爐,適合在氣氛保護環境下熔煉各種合金,最高溫度可達1200℃。該設備采用封閉腔體設計,可有效防止樣品在熔煉和澆注過程中生成氧化物及形成缺陷。其石墨坩堝直徑為60mm,配備電阻絲加熱和石墨攪拌棒,能夠快速熔煉金屬,僅需6-8分鐘。此外,該設備操作簡單,只需設置鑄造溫度、添加樣品并擠壓操縱桿即可完成澆注。設備安裝尺寸為770mm×460mm×460mm,重量為54kg,配備雙極旋片真空泵,所需氣體流量為5L/min。
IMCS-1700HP是一款高壓氣氛控制感應熔煉/鑄造/造粒爐,最高工作溫度可達1700℃,腔體可承受氣壓為1MPa,適用于處理1kg合金樣品。該設備采用三相380VAC電源,最大輸入功率為25kW,配備感應線圈尺寸為170mm(內徑)×110mm(高),并具備自動水壓、過熱和功率過高保護功能。熔煉腔體采用SS304不銹鋼制作,帶有水冷夾層,確保工作時表面溫度低于60℃,并配備安全卸壓閥。溫控系統采用PID方式控溫,可設置30段升降溫程序,控溫精度為±5℃,連續工作溫度范圍為500℃~1600℃,短時間內可達到1700℃。
OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款雙溫區帶有升降雙通道進料系統的共蒸發多層沉積管式爐,通過升降雙通道進料系統可裝載4個不同材料的蒸發坩堝舟,并且可一次同時送入兩個蒸發坩堝源進入管式爐中進行共蒸發或反應蒸發。雙溫區管式爐可以實現快速加熱,并且通過對各個溫區設置不同的加熱溫度可以創建不同的溫度梯度從而實現蒸發沉積。雙通道進料系統可以在程序控制下將2個裝載不同蒸發料的坩堝一同推進拉出,實現共蒸發或者反應蒸發,特別適用于多層二維晶體材料的制備。
OTF-1200X-IV-S是一款迷你型的4溫區管式爐,所有電器元件都通過了UL / MET / CSA認證。此款管式爐最高工作溫度1100℃,共有4個溫區,每個溫區長度為100mmL爐管直徑為25mm或50mm,并配有一套不銹鋼密封法蘭,可對樣品在真空或氣氛保護環境下進行熱處理。每個溫區由獨立的溫控系統控制,都可設置30段升降溫程序,控溫精度為+/-1℃。
OTF-1200X-4-R-II-AF是一款雙溫區回轉管式爐,安裝有自動送料器和收料罐。自動可定份額地將粉料送入到爐管中,此過程可在氣氛保護環境下進行,可實現用連續CVD方法對粉體材料進行包覆和修飾。收料罐可在氣氛保護環境下對處理好的粉料進行收集。此款管式爐設計主要是在鋰離子電池的陰極材料(如LiFePO3, LiMnNiO3)上包覆導電層,同時也可用CVD方式制備 Si/C 陽極材料。
VTF-1600X-B下裝載爐是一款高性能的高溫實驗設備,最高溫度可達1700℃,額定溫度為1600℃,推薦升溫速率為≤10℃/min。該爐采用下開門設計,配備兩個爐門和可移動加熱平臺,通過升降平臺和爐門配合,可在加熱爐不降溫的情況下連續燒結物料,顯著節省燒結時間。其爐膛容積為13L(直徑280mm×深度300mm),采用B型雙鉑銠熱電偶測溫,控溫精度達±1℃。設備配備先進的電氣控制系統,包括30段程序溫控器、觸摸屏操作界面,具備超溫、偏差、斷偶報警功能,以及RS485通訊接口,可實現數據記錄與遠程監控。
KSL-1700X-A1-W高溫箱式爐是一款CE認證的可視臺式高溫馬弗爐。該爐由優質氧化鋁纖維絕緣材料和1800級MoSi2加熱元件組成,高精度SCR(硅控整流器)和溫度控制器配套使用測量和調節溫度,精度為+/-1°C,最高溫度可達1700°C。帶有石英觀察窗口,可在工作過程中隨時觀察物料狀態,是專為高等院校、科研院所的實驗室及工礦企業對金屬、非金屬及其化合物材料進行燒結、融化、分析而研制的專用設備。
OTF-1200X-S-R-II是一款1200℃小型雙溫區旋轉爐,配備Φ50異型石英管,專為實現粉體材料燒結的均勻性而設計,尤其適用于鋰離子電池陰極材料表面導電層的CVD包覆工藝。其安裝尺寸為L1000mm×W300mm×H390mm,重量僅18kg,結構緊湊、輕便易用,能夠有效提升材料處理的均勻性和效率,是高校、科研機構和企業實驗室進行材料研發和工藝優化的理想選擇。
OTF-1200X-50S-PE-SL是一款小型滑動開啟式PECVD管式爐系統,專為高效薄膜沉積實驗設計。該系統配備等離子射頻電源、直徑50mm的開啟式管式爐(含真空法蘭和連接管道)以及機械泵,能夠實現穩定的等離子體增強化學氣相沉積。其安裝尺寸為1500mm×600mm×1200mm,重量約160kg,結構緊湊且操作便捷。此外,該設備可根據實驗需求靈活升級為不同類型的PECVD系統,性價比高,非常適合高校、科研機構和企業實驗室在薄膜制備、材料表面改性等領域的研究應用。
OTF-1200X-5L-R-CVD是一款1200℃旋轉CVD管式爐,專為電池粉體材料表面包覆及其他粉體材料表面修飾設計。爐體配備3個加熱區,確保溫度均勻性,同時搭載4通道精密混氣系統,可精準控制反應氣體。其安裝尺寸為1950mm×600mm×1320mm,重量約130kg,結構緊湊且功能強大,能夠滿足高校、科研機構和企業實驗室在材料表面處理和修飾方面的多樣化需求。
OTF-1200X-4-RTP-130是一款專為快速熱處理設計的精巧型管式爐,配備Φ130mm石英管和不銹鋼密封法蘭,適用于氧化物、半導體及太陽能電池基片(最大4英寸)的快速退火。采用紅外燈管加熱,最快升溫速度可達50℃/秒,控溫精度為±1℃,能夠高效完成高溫處理任務。其安裝尺寸為L1100mm×W700mm×H660mm,結構緊湊,是高校、科研機構和企業實驗室進行快速熱處理的理想設備。