CVD(G)系列高溫真空氣氛管式爐專(zhuān)門(mén)設計用于高溫CVD工藝。如ZnO納米結構的可控生長(cháng)、氮化硅渡膜、陶瓷基片導電率測試、陶瓷電容器(MLCC)氣氛燒結等等。 窯爐采用氧化鋁纖維制品隔熱、保溫,優(yōu)質(zhì)硅鉬棒加熱,優(yōu)質(zhì)99剛玉管爐膛,氣體采用浮子流量計流量計控制。進(jìn)口單回路智能溫度控制儀控制,有效的實(shí)現溫度的控制。設備具有溫度均勻、控制穩定、升溫速度快、節能、使用溫度高、壽命長(cháng)等特點(diǎn),是理想的科研設備。
?該設備為1200℃開(kāi)啟式真空管式爐,不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。爐管工件橫穿于上下共8組電阻絲的爐膛,溫場(chǎng)均勻性好。該設備為特殊設計,爐體上部設計有石英管,樣品經(jīng)過(guò)電機驅動(dòng),上下移動(dòng),方便取放樣;設備兩端安裝有卡箍式不銹鋼快接法蘭,安裝拆卸簡(jiǎn)便快捷,該設備廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領(lǐng)域。雙溫區結構設計可獲得較長(cháng)恒溫區間,溫場(chǎng)均勻性好。結構簡(jiǎn)單,操作方便。法蘭出氣端設計有加熱帶輔助加熱,避免管內水汽冷凝,多余水汽通過(guò)法蘭直接冷凝后經(jīng)出水口排出。
高溫高壓管式爐為1200℃開(kāi)啟式真空管式爐,不僅可以抽真空,也可以通氣體保護。爐管工件橫穿于上下共8組進(jìn)口電阻絲的爐膛,溫場(chǎng)均勻。其開(kāi)啟式結構使得拆裝爐管方便,操作簡(jiǎn)捷,配備不銹鋼彈簧支撐容許在降溫過(guò)程中將爐膛打開(kāi),加快降溫過(guò)程,以滿(mǎn)足特殊實(shí)驗要求。
本公司LSQ-01真空封管機主要用于樣品的無(wú)氧無(wú)水真空密封保存和高溫固相合成,整套系統由真空封管機、氫氧焰機、真空系統、石英管機管接頭組成,標準化定制石英管和石英柱保證其余特殊設計的管接頭配合,提升石英管封裝的密封性,實(shí)現更高標準的真空封管。
高溫高壓爐設計為高溫高壓條件下使用,爐管采用鎳基合金鋼管,具有較高蠕變強度和抗氧化性。密封圈為金屬無(wú)氧銅密封圈,可以在高溫狀態(tài)下通入實(shí)驗氣氛參與實(shí)驗。設備配有背壓閥,加熱過(guò)程中氣體膨脹,壓力上升,背壓閥可將路管內多余氣體排出,維持壓力穩定。同事設備上裝有壓力傳感器和電磁閥,當壓力傳感器檢測到內部壓力大于所設定的壓力時(shí)通過(guò)信號傳送至高壓電磁閥,電磁閥打開(kāi)釋放出多余壓力,可確保安全使用。該設備為單端封口設計,可將線(xiàn)質(zhì)材料通過(guò)雙芯剛玉管穿過(guò)法蘭,并連接到檢測設備上,以便檢測再高溫條件下材料的性能變化。
高溫高壓管式爐如圖所示,集控制系統與爐膛為一體。爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料,采用硅碳棒為加熱元件,均勻分布于爐管兩側,溫場(chǎng)均勻可靠。鎳基合金材料制成的金屬爐管配備CF法蘭密封形式及金屬紫銅密封圈,提高設備的使用溫度,同時(shí)能實(shí)現在一定的高壓條件下實(shí)驗。工件式樣在管中加熱,加熱元件與爐管平行,均勻地分布在爐管外,有效的保證了溫場(chǎng)的均勻性。
1200℃開(kāi)啟式真空管式爐可通氣氛抽真空,設備采用開(kāi)啟式結構,安裝拆卸方便。石英管確保在高真空條件下使用。進(jìn)氣端法蘭采用折頁(yè)式法蘭設計,避免取放料時(shí)的繁瑣操作, 爐管工件橫穿與進(jìn)口電阻絲的爐膛,溫場(chǎng)均勻,內外溫差可控制在5度左右,氣動(dòng)彈簧支撐結構讓操作者可各角度安全開(kāi)啟,該款廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領(lǐng)域。
熱壓方法的最大優(yōu)點(diǎn)是可以大大降低成形壓力和縮短燒結時(shí)間,可以制得密度高和晶粒極細的材料,該設備可將壓制和燒結兩個(gè)工序一并完成,可以在較低壓力下迅速獲得冷壓燒結所達不到的密度,從這個(gè)意義上說(shuō),熱壓是一種強化燒結。凡是用一般方法能制得的粉末零件,都適于用熱壓方法制造,尤其適于制造全致密難熔金屬及其化合物等材料 。
1400℃高溫管式爐廣泛用于:真空或氣氛燒結、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實(shí)驗環(huán)境.。該設備技術(shù)成熟、質(zhì)量可靠,溫場(chǎng)均勻,結構合理,法蘭以卡箍密封,安裝拆卸簡(jiǎn)便快捷,是各大材料實(shí)驗室必備的理想設備之一。
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