真空氣氛管式爐說(shuō)明介紹

簡(jiǎn)介 CVD（G）系列高溫真空氣氛管式爐專(zhuān)門(mén)設計用于高溫CVD工藝。如ZnO納米結構的可控生長(cháng)、氮化硅渡膜、陶瓷基片導電率測試、陶瓷電容器（MLCC）氣氛燒結等等。 窯爐采用氧化鋁纖維制品隔熱、保溫，優(yōu)質(zhì)硅鉬棒加熱，優(yōu)質(zhì)99剛玉管爐膛，氣體采用浮子流量計流量計控制。進(jìn)口單回路智能溫度控制儀控制，有效的實(shí)現溫度的控制。設備具有溫度均勻、控制穩定、升溫速度快、節能、使用溫度高、壽命長(cháng)等特點(diǎn)，是理想的科研設備。 工作原理

CVD（G）系列高溫真空氣氛管式爐專(zhuān)門(mén)設計用于高溫CVD工藝。如ZnO納米結構的可控生長(cháng)、氮化硅渡膜、陶瓷基片導電率測試、陶瓷電容器（MLCC）氣氛燒結等等。 窯爐采用氧化鋁纖維制品隔熱、保溫，優(yōu)質(zhì)硅鉬棒加熱，優(yōu)質(zhì)99剛玉管爐膛，氣體采用浮子流量計流量計控制。進(jìn)口單回路智能溫度控制儀控制，有效的實(shí)現溫度的控制。設備具有溫度均勻、控制穩定、升溫速度快、節能、使用溫度高、壽命長(cháng)等特點(diǎn)，是理想的科研設備。

技術(shù)參數

l 設備名稱(chēng)：高溫真空氣氛管式爐

l 設備型號： CVD(G)-06/50/1

l 最高溫度： 1650℃      

l 工作溫度： RT～1600℃

l 加熱區長(cháng)度：500mm   恒溫區：300mm

l 爐管實(shí)際尺寸：  Φ60（外徑）×1250mm （具體尺寸以設計圖紙為準）

l 爐管材質(zhì)： 優(yōu)質(zhì)99剛玉管

l 爐膛材料：  氧化鋁、高鋁和硅酸鋁纖維制品

l 控制溫區個(gè)數：  1個(gè)，B分度熱偶

l 控溫精度：±1℃，日本進(jìn)口智能溫度控制儀，PID參數自整定超溫、欠偶、斷偶報警保護。

l 加熱元件： 優(yōu)質(zhì)U型硅鉬棒

l 氣體種類(lèi)及流量范圍：氮氣：0.2～2L/min  氧氣 ：0.2～2L/min

l 真空系統：配備機械泵，冷態(tài)極限真空度15Pa

l 最大加熱功率： 10Kw         

l 空爐保溫功率： 約4Kw

l 外形尺寸約為：1250×750×1650（L×W×H）

l 建議升溫速率： 3℃～5℃/min

l 輸入動(dòng)力電源： 三相電源，50HZ ，380V±10%；12KW

l 爐體表面溫升： ≤35℃

選型原則

CVD(G)-06/50/1高溫真空氣氛管式爐爐管總長(cháng)約1.25米加熱區長(cháng)度為500mm。加熱元件采用優(yōu)質(zhì)U型硅鉬棒加熱，最大加熱功率10kw。兩端保溫區長(cháng)各200mm，配有機械泵，可以在冷態(tài)條件下預抽真空

設備結構

真空氣氛管式爐 管式爐

上一個(gè)： 真空釬焊爐 下一個(gè)： 脈沖真空干燥機

與“真空氣氛管式爐”相關(guān)的產(chǎn)品