本發(fā)明公開(kāi)了一種協(xié)同處理銅鎳廢渣和含砷廢料的方法，屬于冶金行業(yè)固危廢資源化處理技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明的處理方法包括：將銅鎳廢渣、含砷廢料、還原劑、硫化劑和溶劑混合后還原硫化熔煉，經(jīng)冷卻后分層得到低密度的冶煉渣、中密度的冰銅和高密度的含鎳合金。該方法工藝流程短，可直接用于分離銅鎳，實(shí)現了銅鎳廢渣和含砷廢料的減量化、無(wú)害化和資源化。

本發(fā)明涉及選礦技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種含砷硫化銅礦石的浮選方法，包括：首先，對原礦進(jìn)行粗磨，采用“一次粗選、兩次掃選和兩次精選”的流程在低堿度下進(jìn)行抑硫?銅砷混選，得到銅砷混合精礦和尾礦；然后，對銅砷混合精礦進(jìn)行濃縮再磨?脫藥，通過(guò)調漿、組合抑制劑的耦合調控和捕收劑的捕收，采用“一次粗選、兩次掃選和兩次精選”的流程強化銅砷分離，從而實(shí)現含砷硫化銅礦石的高效分選。

本發(fā)明提供了一種光氧化處理硫化砷渣的方法，包括以下步驟：在硫化砷渣中加水調節初始硫化砷質(zhì)量濃度2％?20%，調初始pH為3?6，加入二硫化碳萃取劑2~10%，控制光源從側面光照，邊攪拌邊爆氣，進(jìn)行光照氧化浸出；浸出完之后分離有機相和水相，有機相通過(guò)冷卻析出單質(zhì)硫，濾液通過(guò)加入鐵鹽和鈣鹽穩定化處理，穩定化后的壓濾液返回光氧化浸出系統，濾渣達到柔性填埋場(chǎng)的填埋標準。該方法簡(jiǎn)單、不需要加藥劑氧化、不需要額外加催化劑來(lái)催化氧化，直接利用自然界無(wú)處不在的可見(jiàn)光氧化即可實(shí)現高砷渣的安全填埋處置

作為重要的半導體材料，砷化鎵屬于Ⅲ~Ⅴ族化合物半導體，由其制成的半絕緣高阻材料的電阻率比硅、鍺高3個(gè)數量級以上，可用來(lái)制作集成電路襯底。寬禁帶(1.4eV)、高電子遷移率[8500cm2/(V·s)]、能帶結構為直接帶隙的特點(diǎn)決定了其在微電子器件研制中的主要地位。但在砷化鎵芯片的生產(chǎn)過(guò)程中，研磨、清洗等工序會(huì )產(chǎn)生含砷廢水，而砷是劇毒物質(zhì)，會(huì )對人體和環(huán)境造成傷害，因此需對含砷廢水進(jìn)行處理，達標后排放或回用。

本發(fā)明公開(kāi)了一種高砷水凈化工藝，涉及高砷水凈化技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明通過(guò)在廢水中加入Ca(OH)2，廢水中的鐵與廢水中AsO33?、AsO43?形成穩定的絡(luò )合物，并被鐵的氫氧化物吸附共沉去除部分砷；上清液中，先根據銅元素含量添加硫氫化鈉，完全回收銅，此步會(huì )同時(shí)沉下來(lái)少部分砷到銅精礦，然后根據鋅元素含量再次添加硫氫化鈉，此時(shí)水質(zhì)中鋅、砷均回收完全，NaHS先將As5+還原為As3+、As3+再進(jìn)一步與硫氫化鈉反應生成As2S3沉淀，從而達到完全凈化高砷水的目的。

當前在我國銅礦原礦當中砷元素的含量普遍較高，因此在銅礦冶煉過(guò)后會(huì )產(chǎn)生大量的含砷廢水，且濃度較高，會(huì )對環(huán)境造成嚴重的污染。中條山有色金屬集團垣曲冶煉廠(chǎng)的銅礦冶煉廢水的含砷廢水質(zhì)量濃度高達1.0~3.5mg/L，這些含砷廢水必須經(jīng)脫砷處理后，經(jīng)檢測當砷元素質(zhì)量濃度降低到≤0.30mg/L后才能進(jìn)行排放。因此，對于企業(yè)來(lái)講，必須掌握工業(yè)含砷廢水中砷含量測定的Ag-DDTC分光光度標準分析法，同時(shí)通過(guò)調整溶液酸度、鋅粒質(zhì)量、比色皿厚度等關(guān)鍵實(shí)驗條件，確定了最佳試驗參數，能有效提高砷元素濃度測定的準確性。